Негативные фоторезисты mr-EBL 6000, mr-UVL 6000 и mr-DWL

Негативные фоторезисты mr-EBL 6000, mr-UVL 6000 и mr-DWL от Micro Resist Technology (Германия).

mr-EBL 6000 обладает высокой устойчивостью к жидкостному и сухому травлению и высокой разрешающей способностью, используется для электронно-лучевой литографии.

Номер по каталогу	Фасовка
mr-EBL 6000.1	0,25 / 0,5 / 1 л
mr-EBL 6000.3	0,25 / 0,5 / 1 л
mr-EBL 6000.5	0,25 / 0,5 / 1 л

mr-UVL 6000 обладает высокой устойчивостью к сухому и жидкостному травлению и подходит для тонкослойной УФ литографии.

Номер по каталогу	Фасовка
mr-UVL 6000.1	0,25 / 0,5 / 1 л
mr-UVL 6000.3	0,25 / 0,5 / 1 л
mr-UVL 6000.5	0,25 / 0,5 / 1 л

mr-DWL обладает высокой чувствительностью >400 нм (DWL @ 405 nm) и подходит для мультифотонной литографии (Direct Writing Laser).

Номер по каталогу	Фасовка
mr-DWL_5	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л
mr-DWL_40	0,25 / 0,5 / 1 / 2,5 л

Подробнее:

Обзор негативных резистов Micro Resist Technology (анг.)

Чтобы заказать товары из этой категории, пожалуйста, пришлите заказ по электронной почте Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра., либо по телефонам +7 (383) 363-85-90, +7 (499) 346-39-14.